光電會議室。
三個青年人再次聚集在了一起。
雖然青澀的面容，出賣了他們的真實年齡，但這幾位可不是一般的年輕人。
自從顧明，右天相繼退出童子軍后，葉靜，一個女孩子，成了童子軍的實際領導人。正是這段經歷，為她未來的發展，打下了堅實基礎。
嚴亮把更多的精力放到了tftlcd的技術演化上，如今也有了一絲精英氣質。
一系列的儲備技術，在他的手里慢慢成形，五步光刻技術，就是他的作品之一。is，ffs等一批專利技術，為《全彩科技》提供著應對未來挑戰的底氣。
“《一號工程》到了啟動的時候。”
上次的零號工程，遭到了大家的一致反對，這才導致了《全彩科技》的誕生。否則白學成公司的名字，應改是《零點科技》才對。
“其實不用說，我們也知道，是不是準備上晶圓項目了？算起來也到時候了啊！”
lcd驅動芯片開發，不是什么保密的事情。集成電路專業的一幫人，為這個事情已經忙活半年多了。他們不僅僅是忙，更重要的是燒錢。
eda軟件，一套就要二十幾萬美元。雖然教育機構購買，有一定的優惠，但十幾萬美元還是逃不掉的。
這種大規模集成電路設計，肯定不可能由一個人來完成。多人協同工作，就需要多套軟件。項目什么成果還沒有看到，近千萬人民幣就消失了蹤影。
這些錢，總不能白花吧。
“說說看，這個一號工程要怎么個搞法。”
這兩名同鄉，隨著公司的成長，他們的視角也在不斷提高。對很多問題的觀察點，和觀察角度，都與普通人有了明顯不同。站在巨人的肩膀上，指的就是這個意思。
“我認為，還是要一步步來。我們在晶圓產業上沒有積累。目前的當務之急，還是追平國內的先進的技術，也就是2微米技術。”
葉靜首先給出了建議。
1986年，電子工業部提出了“531”發展戰略，即普及推廣5微米技術，開發3微米技術，攻關1微米技術。
時間已經整整過去了6年，除了一微米這個目標沒有達到以外，其它兩個已經差不多完成。15微米的分步投影光刻機，于1985年就已經研制成功。這也是后續的908工程，提出進軍1微米的基礎。
在這個時間點，國內的晶圓廠，已經有不少采用45英寸晶圓，23微米的技術。
這些前輩們的心血沒有白費，它給光電帶來了足夠高的as。
當然了，這幾年，國際上的半導體工藝，進步也沒有停止。最新建成的幾座晶圓廠，已經進步到05微米了。
“這個觀點，我不同意，我們上項目的目的是什么？如果最終目的達不到，花這么多錢，去建一條沒有用的晶圓廠，有什么意義呢？
要上，我們就要上最先進的，直接上035微米！”
隨著不斷的成功，嚴亮的野心也在不斷滋長。尤其是他手里掌握的幾個儲備技術，讓他有了更大的進取心。
在他眼里，國際上所謂的電子巨頭，也就是那么回事。他們除了有點臭錢以外，還有什么？冢中枯骨而已。
led事業，光電的as很高，一出手就是世界第一。
tftlcd雖然差點，但是至少也是第一波。如果晶圓變成了跟著別人屁股后面轉，這不是有損自己的光輝形象嘛！
“035微米？你說話過腦子沒有技術來源在哪里？你知道建一條035微米的晶圓廠要多少錢嗎？”
隨著晶圓工藝進程的逐步提高，晶圓廠的造價也在逐步提高。這也是908只要20個億，而909則上升到了100個億的主要原因。
兩者之間的核心區別在與，908的工藝是09微米，909則是05微米。
035微米的晶圓廠的造價，在國際上，已經上升到10億美元級別了。（035微米，在國際上的批量的普及，是在95年之后的事情，entiuro就是世界上第一批采用此工藝（854），第一批量產的芯片。）
當然，這里還有些其他區別，例如產量，晶圓尺寸等。
如果晶圓工藝這么容易的話，那個破光刻機也就沒有必要牽動這么多人的心了。
兩個人很快就自己吵了起來。
“永興，你是啥意見？你不是把我倆叫來，看吵架的吧。”
“你們說的都對，又都不對。”
“怎么講？”
“晶圓廠要上，但也要考慮現實情況，空喊口號是沒有用的。我們畢竟沒有積累。
但同時，我們的目標也要實現，錢不能白花！如果只是上2微米的晶圓廠，根本沒有意義。”
“咦？你這是啥意思？兩面的話都讓你說全了！”
兩位老鄉同學，都覺得自己的耳朵出了問題。
“這次我準備，用2微米的半導體設備及工藝，來生產1微米的芯片！”
“這怎么可能？”
“我就知道你腦袋里肯定有東西。”
兩個不同性格的人，在沉思片刻后，發出了完全不同的感嘆。
“你不是在開玩笑吧。如果真有這種技術，為什么全球這么多企業每年投入這么金錢，去改進他們的工藝流程，提高生產設備的精度？908工程是在干什么？”
葉靜生性比較保守，看事情更多的是看風險。
“這個技術是有的。這也是為什么這個工程被叫做一號工程的緣故。它的保密級別甚至高于液晶的odf工藝。”
“好吧，你說吧。我們準備好了。”
這已經不是第一次了，成永興召集兩人商量一些高度機密性的科技信息。
經過s，led，以及lcd的不斷洗禮，兩個人對晶圓工藝已經不陌生了。
在后世，人們一提起半導體設備，被津津樂道的，就是光刻機。大家普遍認為，光刻機是中國在半導體工藝上落后的唯一瓶頸。
這句話對，也不對。
對，是因為，中國在半導體工藝領域，被甩得最遠的代表設備就是光刻機。
其他設備，例如蝕刻設備等，它們與國際先進水平，即使有些差距，差距也沒有這么大，甚至某些設備，國產設備已經開始反攻國際市場。
光刻機決定半導體制程的情況，僅僅是出現在2005年之后。這就是地球人都知道的，asl的天王山之戰。
asl在浸入式光刻機上，打了場翻身仗，一舉把日本的幾家競爭對手掀翻在地，從而奠定了在光刻機市場的壟斷地位。
但實際上，在2005年的前后，決定半導體芯片制程的幾個核心技術，都不是光刻機。因為此時，光波的波長，還沒有撞到極限（193n）
中國已經有了15微米的光刻機，但是其他輔助工藝，達不到這么高的精度。
幾十年來，對光刻設備的要求主要基于摩爾定律，通過減小波長和增大數值孔徑（na）來獲得更高分辨率。
但是激光的可用波長就那么幾個，激光波長減少幾次，就無以為繼了。
2004年開始，光刻機就開始使用193n波長的duv激光，誰也沒想到，光刻光源被卡在193n無法進步長達十幾年。
哪怕采用了沉浸式光刻機，也僅僅是使晶圓工藝成功突破了幾個節點。
過了一段時間，半導體工藝的工藝演進路線，再次遇到了類似的問題。后世的14n，10n，的技術突破。都不是通過升級光刻機來實現的。
在光刻機無法升級的情況下，為了突破這個障礙，人們開始尋找別的突圍方向。